Utafiti wa kitaaluma, lugha inayoeleweka

Verianla | Akademik Araştırmalardan Türkçe Ekonomi ve Bilim İçerikleri

27 Septemba 2026, Jumapili
VERİANLAUchapishaji huru wa sayansi
Fungua au funga menyu
...
Home / Sayansi Tumizi / Uhandisi / Ulinzi Imara Zaidi Dhidi ya Kutu ya Mashimo katika Aloi za LPBF NiTi kwa Udhibiti wa Chembe za Kiseli
Uhandisi

Ulinzi Imara Zaidi Dhidi ya Kutu ya Mashimo katika Aloi za LPBF NiTi kwa Udhibiti wa Chembe za Kiseli

Utafiti huu unaonyesha kwamba upinzani dhidi ya kutu ya mashimo katika aloi za nikeli-titani zinazotengenezwa kwa kuyeyusha tabaka la unga kwa leza hautegemei tu msongamano wa nyenzo, bali pia unategemea kwa nguvu uwiano wa chembe zenye muundo wa kiseli unaoundwa kupitia jiometri ya bwawa la kuyeyuka na mikroteguko iliyobaki.

04/08/2026  Veri Anla Imetazamwa mara 20
Ulinzi Imara Zaidi Dhidi ya Kutu ya Mashimo katika Aloi za LPBF NiTi kwa Udhibiti wa Chembe za Kiseli

Utafiti huu unaonyesha kwamba upinzani dhidi ya kutu ya mashimo katika aloi za nikeli-titani zinazotengenezwa kwa kuyeyusha tabaka la unga kwa leza hautegemei tu msongamano wa nyenzo, bali pia unategemea kwa nguvu uwiano wa chembe zenye muundo wa kiseli unaoundwa kupitia jiometri ya bwawa la kuyeyuka na mikroteguko iliyobaki. Watafiti walitumia michanganyiko miwili tofauti ya nguvu ya leza na kasi ya uchanganuzi huku wakidumisha msongamano uleule wa nishati kwa ujazo, kisha wakazifanyia sampuli zote mbili annealing kwa saa tatu katika 500 °C.

Katika sampuli ASL iliyotengenezwa kwa nguvu ndogo na kasi ndogo ya uchanganuzi, nguvu ya leza ya 80 W na kasi ya uchanganuzi ya 480 mm/s zilitumika. Hali hii iliunda mabwawa mengi zaidi na madogo zaidi ya kuyeyuka kwa kila eneo, na hivyo kufanya chembe zenye muundo wa kiseli zisambae kwa msongamano mkubwa zaidi. Uwiano wa chembe za kiseli katika sampuli ASL uliamuliwa kuwa asilimia 41,2 kwa uchanganuzi wa picha. Katika sehemu za mjadala na hitimisho za makala, thamani hiyo hiyo imezungushwa kuwa takribani asilimia 41,5. Katika sampuli ASH yenye nguvu kubwa na kasi kubwa ya uchanganuzi, 300 W na 1.800 mm/s zilitumika, na uwiano wa chembe za kiseli ulibaki asilimia 13,5.

Katika jaribio la polarization kwenye myeyusho wa NaCl wa asilimia 3,5 kwa uzito, sampuli ASL ilionyesha potenshali ya kutu ya -370 mV, potenshali ya kuvunjika kwa filamu passivu ya takribani 1.463 mV na eneo passivu lenye upana wa 1.833 mV. Thamani hii ni pana takribani mara 1,2 hadi 9 kuliko nyingi ya aloi za NiTi zilizolinganishwa katika utafiti. Ingawa mashimo metastabali yalitokea mwanzoni kwenye mkunjo wa polarization, msongamano wa mkondo ulipungua baadaye na uso ukapassivishwa tena.

Tabia bora ya kutu ya sampuli ASL ilihusishwa na kuwepo kwa pamoja kwa uwiano mkubwa wa chembe za kiseli na mikroteguko iliyo chini kwa kiasi. Idadi kubwa ya mipaka ya chembe za kiseli iliongeza maeneo ya kunuklea ambako filamu ya kinga ingeweza kuunda. Annealing nayo ilipunguza sehemu ya kasoro na teguko zilizobaki kutoka kwenye utengenezaji. Matokeo yake, filamu passivu mnene, inayoweza kujirekebisha na yenye TiO2 kwa wingi iliendelea kwenye uso.

Nanochembe za Ti4Ni2Ox zilizopangwa kama mtandao kwenye mipaka ya chembe za kiseli zilichangia awali mwingiliano wa mikrogalvaniki na kuanzishwa kwa mashimo metastabali. Hata hivyo, utafiti unaonyesha kwamba chembe hizi pekee haziamui tabia ya kutu ya muda mrefu. Chembe zilipoendelea kuyeyuka, athari ya mikrogalvaniki ilidhoofika, huku upassivishaji upya unaoungwa mkono na msongamano mkubwa wa mipaka ya chembe za kiseli ukawa ndio unaotawala.

Kwa mtazamo wa Uturuki, mbinu hii inaweza kuchunguzwa kwa ajili ya kuendeleza sehemu za NiTi zilizotengenezwa kwa utengenezaji nyongeza ambazo zinaweza kutumika katika maji ya bahari, unyevunyevu wenye chumvi, anga ya pwani au mazingira ya kazi yenye kloridi. Aktueta za anga, mifumo ya chini ya maji, viunganishi vya kumbukumbu ya umbo na baadhi ya vipengele vya kitabibu ni maeneo yanayoweza kutumika. Hata hivyo, majaribio yalifanywa tu katika mazingira ya maabara, katika myeyusho wa NaCl wa asilimia 3,5 kwa uzito na kwenye sampuli ndogo za mchemraba. Haiwezekani kutoa hitimisho kuhusu maisha ya huduma au uaminifu wa kibiashara bila kuthibitisha kando muundo wa kemikali, taratibu za kumalizia uso, mizigo ya uchovu, mabadiliko ya joto na mazingira ya matumizi ya sehemu halisi zitakazotengenezwa nchini Uturuki.

Swali kuu la utafiti ni lipi?

Swali kuu la utafiti ni hili: je, uwiano wa chembe za kiseli unaweza kuongezwa kwa kubadilisha ukubwa na msongamano wa mabwawa ya kuyeyuka yanayotokea wakati wa kuyeyusha tabaka la unga kwa leza, na je, upangaji huu wa mikrostruktura unaweza kuboresha upinzani wa aloi za NiTi zenye kumbukumbu ya umbo dhidi ya kutu ya mashimo inayosababishwa na kloridi?

Aloi za NiTi hutumika katika anga, matumizi ya baharini na mifumo ya kimekanika yenye kazi maalumu kwa sababu ya kumbukumbu ya umbo, superelasticity na upinzani wa kutu. Hata hivyo, ioni za kloridi zinaweza kuvunja filamu passivu ya kinga kwenye uso kwa maeneo mahususi. Mashimo madogo yanapotokea na kuendelea kukua kwa muda yanaweza kudhoofisha sehemu ya msalaba ya kipande na kupunguza uaminifu wake wa kiutendaji.

Kuganda kwa kasi wakati wa utengenezaji nyongeza huunda kwa wakati mmoja miundo tofauti ndani ya nyenzo:

  • Chembe ndogo na za kiseli kwenye mipaka ya bwawa la kuyeyuka
  • Chembe kubwa zaidi katika maeneo yaliyoathiriwa na joto
  • Chembe za nguzo zinazoundwa kwa kuganda kwa mwelekeo
  • Msongamano mkubwa wa dislocation na mikroteguko iliyobaki
  • Maeneo ya austenite B2 na martensite B19′
  • Nanochembe za oksidi zenye Ti kwa wingi

Chembe ndogo za kiseli zinaweza kusaidia filamu passivu kukua haraka kwa kuunda idadi kubwa ya mipaka ya chembe. Kwa upande mwingine, kasoro na teguko zinazokusanyika katika maeneo ya kiseli zinaweza kuongeza shughuli ya kemikali ya uso na kuanzisha mashimo. Lengo la utafiti ni kutenganisha athari hizi zenye manufaa na zenye madhara.

Chembe ya kiseli ina maana gani?

Chembe za kiseli ni miundo ya kiwango cha chini ya mikromita inayoundwa wakati wa kuganda kwa kasi sana na inayofanana na seli ndogo zilizounganishwa katika picha za darubini. Katika utafiti, miundo hii ilionekana hasa kwenye mipaka ya mabwawa ya kuyeyuka.

Uwiano mkubwa wa chembe za kiseli ni muhimu kwa njia mbili:

  • Unaweza kutoa mipaka zaidi ya chembe na maeneo ya kunuklea kwa ajili ya kuundwa kwa filamu passivu ya oksidi.
  • Ikiwa kuna precipitate, dislocation au utengano wa kemikali kwenye mipaka ya chembe, unaweza kuunda tofauti za kielektrokemia za eneo.

Kwa hiyo, kuongeza uwiano wa chembe za kiseli pekee hakutoi moja kwa moja upinzani bora wa kutu. Mikroteguko, usambazaji wa awamu na precipitate pia zinapaswa kudhibitiwa.

Msongamano wa bwawa la kuyeyuka ulibadilishwaje?

Watafiti walidumisha msongamano uleule wa nishati kwa ujazo, 69,4 J/mm3, kwa sampuli zote mbili. Hata hivyo, nguvu ya leza na kasi ya uchanganuzi zilichaguliwa tofauti:

SampuliNguvu ya lezaKasi ya uchanganuziMsongamano wa nishati kwa ujazoMuundo wa bwawa la kuyeyuka
ASL80 W480 mm/s69,4 J/mm3Mabwawa madogo zaidi, yenye msongamano mkubwa zaidi na mengi zaidi kwa kila eneo
ASH300 W1.800 mm/s69,4 J/mm3Mabwawa makubwa zaidi, yaliyotawanyika zaidi na mapana zaidi

Msongamano uleule wa nishati haumaanishi kwamba hali hizi mbili za utengenezaji ziliunda historia ileile ya joto. Nguvu ya leza na kasi ya uchanganuzi zilibadilisha kiwango cha muda na nafasi ambacho nishati ilihamishwa kwenda kwenye nyenzo.

Katika hali ya nguvu ndogo ya ASL, mipaka mingi zaidi ya bwawa la kuyeyuka iliundwa. Kwa sababu chembe za kiseli ziliendelea hasa kwenye mipaka hii, uwiano wa jumla wa chembe za kiseli uliongezeka. Katika hali ya nguvu kubwa ya ASH, mabwawa mapana ya kuyeyuka na mipaka iliyotawanyika zaidi iliundwa, hivyo eneo la jumla lililochukuliwa na miundo ya kiseli likapungua.

Sampuli zilitengenezwaje?

Katika hali zote mbili, sampuli za NiTi za umbo la mchemraba zenye vipimo vya 10 × 10 × 10 mm3 zilitengenezwa. Vigezo vya pamoja vya uchanganuzi na tabaka vilikuwa hivi:

  • Upana wa mstari: 5 mm
  • Umbali kati ya mistari ya uchanganuzi: 80 µm
  • Unene wa tabaka: 30 µm
  • Mzunguko wa uchanganuzi kati ya tabaka: 67°
  • Joto la kupasha mapema msingi: 200 °C

Mzunguko wa tabaka wa nyuzi 67 na upashaji wa awali wa 200 °C vilitumika kupunguza teguko la joto na kupinda kwa sampuli.

Baada ya utengenezaji, sampuli zote zilifanyiwa annealing katika mazingira ya argon inayopita kwa saa tatu katika 500 °C na kupozwa ndani ya tanuru hadi joto la kawaida. Lengo la annealing lilikuwa kupunguza teguko lililobaki lililotokana na LPBF huku sehemu muhimu ya mikrostruktura ya kiseli ikihifadhiwa.

Kwa majaribio ya kielektrokemia, mchemraba uliofanyiwa annealing ulitumika. Kwa uchunguzi wa filamu passivu, sampuli zilikatwa kwa vipimo vya 3 × 3 × 5 mm3; kabla ya majaribio, nyuso zilisuguliwa hadi 0,25 µm, zikaondolewa mafuta kwa ethanoli na asetoni, na kukaushwa.

Matokeo ya msongamano na porosity yakoje?

SampuliMsongamano wa ArchimedesUchunguzi wa SEM
ASL6,35 ± 0,01 g/cm3Idadi ndogo ya matundu madogo
ASH6,43 ± 0,05 g/cm3Hakukuonekana matundu dhahiri.

ASH yenye nguvu kubwa ya leza ilionyesha msongamano mkubwa zaidi. Hata hivyo, upinzani wake wa kutu ulibaki dhaifu kuliko sampuli ASL. Matokeo haya yanaonyesha kwamba kwa sampuli hizi mbili zilizolinganishwa, msongamano pekee haukuamua utendaji wa kutu.

Ugunduzi huu haumaanishi kwamba matundu kwa ujumla si muhimu. Katika utafiti, idadi ya matundu ndani ya ASL ilikuwa ndogo na ukubwa wake ulikuwa mdogo. Porosity kubwa zaidi au kasoro kubwa zilizo wazi kwenye uso zinaweza kutoa matokeo tofauti.

Miundo ya awamu ilibadilikaje?

Kulingana na matokeo ya XRD, sampuli zote mbili zina miundo mitatu kuu:

  • Awamu kuu ya austenite B2
  • Martensite B19′
  • Precipitate za Ti4Ni2Ox

Awamu ya B2 ndiyo inayotawala katika sampuli zote mbili. Sampuli ASL ina martensite B19′ kidogo zaidi, ilhali katika sampuli ASH maeneo ya martensite yenye umbo la sindano yamesambaa zaidi.

Matokeo ya awamu ya EBSDASLASH
Austenite B2%88,0%83,2
Martensite B19′%1,8%6,3
Eneo lisiloweza kuwekewa faharasa%10,2%10,5

Uwiano mkubwa zaidi wa martensite katika sampuli ASH na msongamano mkubwa wa dislocation kwenye interfaces za martensite uliunda muundo ambao unaweza kusababisha heterogeneity kubwa zaidi ya kielektrokemia kwenye uso.

Uwiano wa chembe za kiseli ni kiasi gani?

SampuliUwiano wa chembe za kiseliMofolojia ya jumla ya chembe
ASL%41,2Chembe za B2 zilizo ndogo zaidi na zenye kuonekana zimerefuka
ASH%13,5Chembe kubwa zaidi na za umbo la mraba

Uchanganuzi wa picha wa utafiti na maelezo ya Kielelezo 3 yanatoa thamani ya asilimia 41,2 kwa ASL. Katika sehemu za mjadala na hitimisho, uwiano huu umeandikwa kuwa asilimia 41,5. Thamani zote mbili ni za sampuli ileile, na tofauti ya pointi 0,3 za asilimia inapaswa kutathminiwa kama tofauti ya kuzungusha au uhariri ndani ya chanzo.

Ukubwa wa chembe moja ya kiseli ya mfano ya ASL katika uchunguzi wa TEM ni takribani 749 nm. Utafiti hautoi usambazaji wa kina wa kitakwimu wa ukubwa kwa chembe zote za kiseli, bali unasema kwa ujumla kuwa miundo hiyo iko katika kiwango cha chini ya mikromita.

Nanochembe za Ti4Ni2Ox zilisambazwaje?

Katika sampuli ASL na ASH, awamu ileile ya precipitate ilionekana ikiwa na mofolojia na nafasi tofauti.

Katika sampuli ASL:

  • Chembe za Ti4Ni2Ox ziliunda miundo ya kimtandao kando ya mipaka ya chembe za kiseli.
  • Ndani ya chembe za kiseli, precipitate hizi zilikuwa chache zaidi.
  • Ndani ya chembe za nguzo, chembe za Ti4Ni2Ox zenye umbo la nukta na kipenyo cha takribani 20 nm zilipatikana.
  • Kwenye mpaka wa chembe ya kiseli, nanochembe ya TiO yenye nafasi ya kimiani ya takribani 0,212 nm pia ilitambuliwa.

Katika sampuli ASH:

  • Ti4Ni2Ox ilisambaa zaidi kama chembe zenye umbo la nukta.
  • Chembe zilisambaa kwa usawa zaidi ndani na kwenye mipaka ya chembe za kiseli.
  • Katika maeneo ya nguzo, lamella za martensite B19′ zenye umbo la sindano na unene wa 20-80 nm zilipatikana.
  • Moja ya lamella za martensite zilizochunguzwa ilikuwa na unene wa takribani 64 nm, na lamella pacha ya martensite iliyo nyembamba zaidi ilikuwa na unene wa takribani 19 nm.

Kwa nini precipitate za kimtandao huongeza kutu mwanzoni?

Potenshali ya Volta ya precipitate za Ti4Ni2Ox ni ya chini kuliko ile ya matriksi ya NiTi. Precipitate na matriksi inayoizunguka zinapokuwa pamoja, seli ndogo za mikrogalvaniki zinaweza kuundwa.

Kwa sababu precipitate za kimtandao katika sampuli ASL zilisambaa kwenye mtandao mpana wa mipaka ya chembe, mwingiliano mwingi zaidi wa mikrogalvaniki ulitokea mwanzoni. Mabadiliko makubwa ya mkondo kati ya 0 na 800 mV kwenye mkunjo wa polarization yalihusishwa na uundaji wa mashimo haya metastabali.

Hata hivyo, precipitate za kimtandao ziliyeyuka kwa sehemu kadiri muda ulivyopita na shughuli ya mikrogalvaniki ikapungua. Mipaka ya chembe za kiseli iliendelea kusaidia kuundwa kwa filamu passivu. Hivyo, kuyeyuka kwa eneo kulikotokea mwanzoni kulizimwa na upassivishaji upya badala ya kuendelea kuwa ukuaji wa mashimo wa kudumu na wa muda mrefu.

Mikroteguko ilitathminiwaje?

Wastani wa kutolingana kwa mwelekeo wa punje, KAM, uliohesabiwa kutoka data za EBSD ulitumika kutathmini mabadiliko ya mwelekeo wa eneo na, kwa njia isiyo ya moja kwa moja, mikroteguko na msongamano wa dislocation.

Kipimo cha mikrostrukturaASLASH
Wastani wa KAM0,640,83
Uwiano wa mipaka ya chembe yenye pembe ndogo, 2-15°%71,6%59,6
Uwiano wa martensite%1,8%6,3

Sampuli ASL ilionyesha thamani ya wastani ya KAM iliyo chini licha ya kuwa na uwiano mkubwa zaidi wa chembe za kiseli. Annealing ilipunguza sehemu ya kasoro zilizosababishwa na LPBF na kupunguza mikroteguko bila kuondoa kabisa muundo wa kiseli.

Katika sampuli ASH, mikroteguko ilijilimbikiza sio tu katika maeneo ya kiseli bali pia karibu na martensite. Kuonekana kwa msongamano mkubwa wa dislocation karibu na interfaces za martensite katika picha za TEM kunaunga mkono matokeo ya EBSD.

Majaribio ya kielektrokemia yalifanywaje?

Majaribio ya polarization na impedance ya kielektrokemia yalifanywa katika joto la 25 ± 0,5 °C, kwenye myeyusho wa NaCl wa asilimia 3,5 kwa uzito.

Katika seli yenye elektrodi tatu:

  • Elektrodi ya kalomeli iliyojaa ilitumika kama elektrodi rejea
  • Bamba la platinamu lilitumika kama elektrodi kinzani
  • Sampuli ya NiTi yenye uso wazi wa 0,5 cm2 ilitumika kama elektrodi ya kazi.

Sampuli ziliachwa kwenye myeyusho kwa dakika 30 kabla ya jaribio ili potenshali ya mzunguko wazi iwe thabiti. Polarization ya potensiodinamiki ilifanywa:

  • Kati ya -0,6 na 1,7 V
  • Ikirejelewa kwa elektrodi ya kalomeli iliyojaa
  • Kwa kasi ya uchanganuzi ya 1 mV/s
  • Kwa marudio matatu kwa kila sampuli.

Kwa sababu hakukuwa na eneo la Tafel la mstari linaloaminika kwenye mkunjo wa anodi, msongamano wa mkondo wa kutu haukuhesabiwa kwa Tafel extrapolation. Badala yake, watafiti walitumia tofauti kati ya potenshali ya kutu na potenshali ya kuvunjika kwa filamu passivu:

\[ \Delta E_{\mathrm{pasif}}=E_b-E_{\mathrm{corr}} \]

Hapa Ecorr inawakilisha potenshali ya kutu, na Eb potenshali ambapo filamu passivu huanza kuvunjika.

Matokeo ya polarization ni yapi?

SampuliEcorrEbEb-EcorrTabia kuu
ASL-370 ± 6 mVSCE1.463 ± 3 mVSCE1.833 ± 9 mVMashimo metastabali na upassivishaji upya wenye nguvu
ASH-401 ± 10 mVSCE1.329 ± 5 mVSCE1.730 ± 15 mVEneo pana passivu, lakini kutu ya eneo iliyo dhahiri zaidi

Katika mkunjo wa ASL, kati ya 0-800 mV msongamano wa mkondo ulibadilika karibu na kiwango cha 10-4 A/cm2. Mabadiliko haya yalihusishwa na kuanza na kufungwa tena kwa mashimo metastabali.

Kati ya 800-1.400 mV, msongamano wa mkondo ulipungua hadi takribani 4,8 × 10-5 A/cm2 na ukawa thabiti zaidi. Sehemu hii inaonyesha kwamba uso ulipassivishwa tena. Baada ya takribani 1.460 mV, mkondo uliongezeka tena na filamu passivu ikaanza kuvunjika.

Katika sampuli ASH, ongezeko la kwanza la mkondo lilionekana kati ya -400 na 500 mV, na tabia passivu karibu na kiwango cha 5,1 × 10-5 A/cm2 iliundwa kati ya 500-1.300 mV. Zaidi ya takribani 1.330 mV, filamu passivu ilivunjika.

Nyuso zilionekanaje baada ya kutu?

Baada ya polarization, hakuna eneo la wazi la kutu lililoonekana kwa macho kwenye uso wa ASL. Katika uchunguzi wa SEM, ingawa chembe nyingi za NaCl zilikuwa zimeshikamana na uso, hakuna mashimo ya kina yaliyodhihirika chini ya chembe hizo. Ni mashimo machache tu madogo na mafupi yaliyoonekana.

Kwenye uso wa ASH, mabadiliko ya rangi ya eneo na eneo la kutu yalionekana. Picha za SEM zilionyesha pamoja na mashimo madogo, mashimo ya kutu mapana zaidi lakini yenye kina kidogo kwa kiasi.

Ukweli kwamba sampuli ASL ilionyesha mashimo machache licha ya kuwa na msongamano mdogo na matundu madogo unaunga mkono kwamba katika hali hizi za majaribio uwezo wa kupassivishwa tena ulikuwa muhimu zaidi kuliko tofauti ya msongamano.

Spektroskopia ya impedance ya kielektrokemia ilionyesha nini?

Vipimo vya EIS vilifanywa kwenye potenshali ya mzunguko wazi, kwa volteji mbadala ya 10 mV na katika masafa ya 105-10-2 Hz. Sampuli zililinganishwa baada ya kuzamishwa kwa saa 2 na 72.

Baada ya saa mbili, mikunjo ya impedance ya sampuli mbili ilikuwa karibu kufanana. ASL ilionyesha tu arc ya kapasitansi kubwa kidogo. Baada ya saa sabini na mbili, radius ya Nyquist na impedance ya masafa ya chini ya sampuli ASL ziliongezeka kwa dhahiri.

Data ziliundwa kwa mzunguko sawia wa filamu passivu yenye tabaka mbili:

  • Rs: upinzani wa myeyusho
  • Rb na CPEb: upinzani na kipengele cha awamu thabiti cha tabaka la nje lenye matundu
  • Rp na CPEp: upinzani na kipengele cha awamu thabiti cha tabaka la ndani lenye kizuizi mnene

Admitansi ya kipengele cha awamu thabiti ilitolewa kwa usemi:

\[ Y=Y_0(j\omega)^n \]

Hapa Y0 inawakilisha ukubwa wa awamu thabiti, j kitengo cha kufikirika, ω masafa ya pembe na n kiwango ambacho uso hutofautiana na kapasita bora.

Upinzani wa tabaka la ndani la filamu passivu ulibadilikaje?

Muda wa kuzamishwaSampuliUpinzani wa tabaka la ndani RpUpinzani wa tabaka la nje Rb
Saa 2ASL1,46 × 105 Ω·cm20,43 × 105 Ω·cm2
Saa 2ASH1,36 × 105 Ω·cm20,51 × 105 Ω·cm2
Saa 72ASL13,5 × 105 Ω·cm20,33 × 105 Ω·cm2
Saa 72ASH6,72 × 105 Ω·cm20,25 × 105 Ω·cm2

Baada ya saa sabini na mbili, upinzani wa tabaka la ndani la filamu passivu la sampuli ASL ulifikia takribani mara mbili ya thamani ya ASH. Matokeo haya yanaonyesha kwamba tabaka la kizuizi kwenye uso wa ASL lilikuwa na kinga zaidi kadiri muda ulivyopita.

Matokeo ya potenshali ya uso ya SKPFM yanaeleza nini?

Baada ya kuzamishwa kwa saa sabini na mbili, darubini ya nguvu za atomu na darubini ya nguvu ya uchunguzi wa Kelvin inayochanganua zilitumika.

SampuliKiwango cha potenshali ya VoltaTofauti ya jumlaSifa ya usambazaji
ASL535,9-629,9 mV94,0 mVMabadiliko ya potenshali yaliyo na mpangilio zaidi na laini zaidi
ASH514,2-614,9 mV100,7 mVMaeneo yaliyotawanyika yenye potenshali ndogo na gradient kali zaidi

Ingawa tofauti za jumla za potenshali ziko karibu, usambazaji wa nafasi ni tofauti. Mabadiliko makali na ya eneo katika potenshali kwenye uso wa ASH yaliunda maeneo yanayoweza kuimarisha mwingiliano wa mikrogalvaniki. Uso wa ASL ulionyesha muundo wa kielektrokemia ulio sawia zaidi.

Filamu passivu huundwa kupitia athari gani za kemikali?

Katika utafiti, athari zifuatazo za anodi zilitolewa kwa ajili ya uundaji wa filamu passivu:

\[ \mathrm{Ti \rightarrow Ti^{4+}+4e^-} \]

\[ \mathrm{Ti+2H_2O \rightarrow TiO_2+4H^++4e^-} \]

\[ \mathrm{Ni \rightarrow Ni^{2+}+2e^-} \]

\[ \mathrm{Ni^{2+}+2OH^- \rightarrow Ni(OH)_2} \]

Upunguzaji wa oksijeni kwenye cathode:

\[ \mathrm{O_2+2H_2O+4e^- \rightarrow 4OH^-} \]

ulielezwa kwa namna hiyo.

Kulingana na matokeo ya XPS, filamu passivu za sampuli zote mbili zina hasa TiO2, kiasi kidogo cha Ni(OH)2, na Ti pamoja na Ni za metali.

Uwiano wa nikeli kwenye uso ulibadilikaje kwa muda?

Muda wa kuzamishwaUwiano wa Ni kwenye uso wa ASLUwiano wa Ni kwenye uso wa ASH
Saa 24%1,13 atomiki%3,19 atomiki
Saa 72%1,09 atomiki%3,10 atomiki
Saa 168%2,08 atomiki%6,10 atomiki

Kwenye uso wa ASH, kulikuwa na mkusanyiko mkubwa zaidi wa nikeli na Ni(OH)2. Uwiano wa nikeli kubaki chini zaidi kwenye uso wa ASL unaendana na muundo wa filamu passivu wenye TiO2 kwa wingi zaidi.

Vipengele vya oksijeni vilibadilikaje?

Ishara ya O 1s iligawanywa katika vipengele vitatu:

  • O2-: oksijeni ya kimiani, hasa katika TiO2
  • OH-: aina za hidroksidi kama Ni(OH)2
  • H2O: maji yaliyoadsorbika kwenye uso au kushiriki katika uundaji wa filamu
Sampuli na mudaO2-OH-H2OTafsiri
ASL, saa 24%11,4%39,5%49,1Filamu iliyo na maji na inayofanya athari katika hatua ya awali
ASL, saa 72%32,2%27,4%40,4Uwiano wa O2-/OH- ulizidi 1.
ASL, saa 168%23,7%23,4%52,9Filamu yenye oksidi ya Ti kwa wingi na inayoweza kuundwa upya
ASH, saa 24%49,0%30,7%20,3Filamu yenye uwiano mkubwa wa oksidi mwanzoni
ASH, saa 72%45,4%54,6HaikugunduliwaUwiano wa hidroksidi uliongezeka.
ASH, saa 168%22,3%77,7HaikugunduliwaUtawala wa aina za hidroksidi ya Ni uliongezeka kwa dhahiri.

Katika sampuli ASL, uwiano mkubwa wa maji katika hatua ya awali ulihusishwa na shughuli kubwa ya kemikali ya uso na tabia ya mashimo metastabali. Kadiri muda ulivyopita, uwiano wa O2-/OH- ulizidi moja na filamu mnene zaidi yenye TiO2 kwa wingi ikaendelea.

Katika sampuli ASH, wakati wa kuzamishwa kwa muda mrefu, kipengele cha maji yaliyoadsorbika kilitoweka, uwiano wa hidroksidi ukaongezeka na filamu yenye nikeli kwa wingi zaidi ikaundwa. Muundo huu haukupatikana kuwa thabiti dhidi ya shambulio la kloridi kama filamu ya ASL.

Utaratibu wa kutu katika sampuli ASL unaendeleaje?

  1. Chembe za Ti4Ni2Ox zenye muundo wa mtandao huunda jozi za mikrogalvaniki na matriksi ya NiTi.
  2. Mkondo wa awali huongezeka na mashimo madogo metastabali huundwa.
  3. Uwiano mkubwa wa chembe za kiseli hutoa mipaka mingi ambako filamu passivu inaweza kunuklea kwa haraka.
  4. Chembe za Ti4Ni2Ox zinapoyeyuka kwa sehemu, shughuli ya mikrogalvaniki hudhoofika.
  5. Mikroteguko ya wastani iliyo chini hupunguza mwelekeo wa filamu passivu kuvunjika tena katika maeneo mahususi.
  6. Tabaka la ndani la kizuizi lenye TiO2 kwa wingi hunenepa na upassivishaji upya hutawala.
  7. Ukuaji wa mashimo ya wazi na ya kina kwenye uso huzuiwa kwa kiasi kikubwa.

Utaratibu wa kutu katika sampuli ASH unaendeleaje?

  1. Chembe za Ti4Ni2Ox zenye umbo la nukta huunda mwingiliano wa mikrogalvaniki uliosambaa kwa usawa zaidi.
  2. Uwiano mdogo wa chembe za kiseli hutoa mipaka michache kwa ajili ya kufanywa upya haraka kwa filamu passivu.
  3. Uwiano mkubwa zaidi wa martensite B19′ huunda interfaces za ziada za awamu.
  4. Dislocation karibu na martensite na thamani kubwa ya KAM huongeza shughuli ya kemikali ya eneo.
  5. Gradient kali za potenshali ya uso huunda maeneo nyeti kwa shambulio la kloridi.
  6. Ingawa filamu passivu kwa ujumla hudumu katika kiwango kipana cha potenshali, huvunjika kwa urahisi zaidi katika maeneo mahususi.
  7. Mashimo mapana zaidi lakini yasiyo na kina sana hukua.

Matokeo muhimu zaidi ya kisayansi ya utafiti ni yapi?

Matokeo kuu ya utafiti ni kwamba athari ya chembe za kiseli kwenye kutu si ya mwelekeo mmoja. Mipaka ya chembe za kiseli inaweza kuchangia mashimo metastabali mwanzoni kutokana na precipitate na mwingiliano wa mikrogalvaniki. Mipaka hiyo hiyo, mikroteguko iliyobaki inapopunguzwa vya kutosha, inaweza pia kusaidia uundaji wa haraka na kufanywa upya kwa kudumu kwa filamu passivu.

Kwa hiyo, mkakati wenye mafanikio si tu “kupunguza ukubwa wa chembe”. Mbinu iliyotengenezwa katika utafiti inadhibiti kwa pamoja vigezo vinne vifuatavyo:

  • Uwiano wa chembe za kiseli
  • Msongamano wa mipaka ya bwawa la kuyeyuka
  • Kiasi cha martensite
  • Mikroteguko na usambazaji wa precipitate

Utafiti unaunga mkono matokeo gani?

  • Katika msongamano uleule wa nishati kwa ujazo, michanganyiko tofauti ya nguvu ya leza na kasi ya uchanganuzi iliunda jiometri tofauti za bwawa la kuyeyuka.
  • Nguvu ndogo na kasi ndogo ziliongeza idadi ya mipaka ya bwawa la kuyeyuka kwa kila eneo na uwiano wa chembe za kiseli.
  • Sampuli ASL ilifikia uwiano wa chembe za kiseli wa takribani asilimia 41,2.
  • Annealing kwa saa tatu katika 500 °C ilipunguza mikroteguko ya wastani bila kuondoa kabisa muundo wa kiseli.
  • Sampuli ASL ilionyesha eneo passivu lenye upana wa 1.833 ± 9 mV.
  • Katika mkunjo wa polarization wa ASL, upassivishaji upya wa dhahiri ulitokea baada ya mashimo metastabali.
  • Baada ya saa sabini na mbili, upinzani wa tabaka la ndani la filamu passivu la ASL uliongezeka hadi takribani mara mbili ya thamani ya ASH.
  • Kwenye uso wa ASL, filamu passivu yenye TiO2 kwa wingi na uwiano mdogo zaidi wa nikeli iliundwa.
  • Katika sampuli ASH, martensite zaidi, mikroteguko zaidi na heterogeneity kubwa zaidi ya potenshali ya uso ya eneo zilionekana.
  • Ingawa precipitate za Ti4Ni2Ox zenye muundo wa mtandao zilichangia mashimo metastabali ya awali, hazikuamua pekee tabia ya muda mrefu.

Utafiti hauthibitishi matokeo gani?

  • Haijathibitishwa kwamba uwiano mkubwa wa chembe za kiseli utatoa matokeo yale yale katika kila muundo wa NiTi na kila mfumo wa utengenezaji.
  • Haijaonyeshwa kwamba vigezo vya utengenezaji vya ASL ni optimum ya moja kwa moja kwa mashine zote za LPBF.
  • Utafiti haukufanywa katika maji halisi ya bahari, majimaji ya mwili, joto la juu au hali za kloridi zinazobadilika.
  • Kutu ya muda mrefu katika mazingira halisi au maisha ya huduma hayakupimwa.
  • Haijaonyeshwa kando kwamba uboreshaji wa kutu unahifadhi utendaji wa superelasticity na kumbukumbu ya umbo.
  • Majaribio ya mvutano, mgandamizo, uchovu au uendelezaji wa nyufa hayakufanywa.
  • Utoaji wa ioni za nikeli kutoka kwenye uso haukupimwa moja kwa moja kwa uchanganuzi wa myeyusho.
  • Majaribio ya biocompatibility ya kitabibu au ya seli hayakufanywa.
  • Athari ya matundu madogo kwenye uchovu wa kutu wa muda mrefu haikutathminiwa.
  • Eneo passivu la takribani 1.833 mV halimaanishi kwamba mashimo hayatokea katika hali zote halisi za matumizi.

Vikwazo vikuu vya utafiti ni vipi?

  • Chanzo ni preprint ambayo haijapitia mapitio ya wenzao.
  • Michanganyiko miwili tu ya nguvu ya leza na kasi ya uchanganuzi ililinganishwa.
  • Ingawa msongamano wa nishati kwa ujazo wa hali hizo mbili ulikuwa sawa, historia zao kamili za joto-muda hazikupimwa moja kwa moja.
  • Majaribio ya kutu yalifanywa tu katika myeyusho wa NaCl wa asilimia 3,5 kwa uzito.
  • Ingawa majaribio ya polarization yalirudiwa mara tatu, idadi ya sampuli kwa baadhi ya vipimo vya mikrostruktura haikutolewa kwa kina.
  • Matokeo ya TEM yanawakilisha maeneo madogo sana ya ndani.
  • Uwiano wa chembe za kiseli kwa ASL umetolewa kama asilimia 41,2 na asilimia 41,5 katika sehemu tofauti.
  • Unene wa filamu passivu haukuamuliwa kwa kipimo cha moja kwa moja cha sehemu ya msalaba.
  • Matokeo ya XPS yanatoa muundo wa uso wa kiasi-kadirio; wasifu kamili wa kemikali wa filamu kwa kina haukutolewa.
  • Kiasi cha ioni za Ni kilichotolewa kwenye myeyusho hakikupimwa kwa ICP au mbinu inayofanana.
  • Data hazikuchapishwa katika hifadhi wazi; ilielezwa kwamba zitatolewa kwa ombi.

Mbinu na Matokeo ya Utafiti

Muhtasari wa kiufundi wa muundo wa jaribio

Kipengele cha jaribioASLASH
Nguvu ya leza80 W300 W
Kasi ya uchanganuzi480 mm/s1.800 mm/s
Msongamano wa nishati kwa ujazo69,4 J/mm369,4 J/mm3
Nafasi ya uchanganuzi80 µm80 µm
Unene wa tabaka30 µm30 µm
Mzunguko wa tabaka67°67°
Upashaji wa awali wa msingi200 °C200 °C
Annealing500 °C, saa 3, argon500 °C, saa 3, argon

Mbinu za tabia zilizotumika

MbinuSifa iliyochunguzwaHali kuu
Mbinu ya ArchimedesMsongamano wa sampuliAngalau vipimo vitatu kwa kila sampuli
XRDAwamu za B2, B19′ na Ti4Ni2OxCu Kα, 40 kV, 30 mA
Darubini ya machoMofolojia ya jumla ya chembeNyuso zilizochongwa kwa kemikali
SEMChembe za kiseli, matundu na mashimo ya kutuUchongaji wa kemikali na elektrolitiki
TEM/HRTEMChembe za chini ya mikromita, precipitate na interfaces za martensiteFEI Talos F200X
EDSUsambazaji wa elementi Ti, Ni na OPamoja na TEM
SAED na FFTMuundo wa fuwele wa precipitate na awamuUtambuzi wa Ti4Ni2Ox, TiO na B19′
Polarization ya potensiodinamikiPotenshali ya kutu na eneo passivu3,5 wt.% NaCl, 25 °C, 1 mV/s
EISUpinzani na tabia ya kapasitansi ya filamu passivuSaa 2 na 72; 105-10-2 Hz
AFM-SKPFMTopografia ya uso na potenshali ya VoltaBaada ya kuzamishwa kwa saa 72
XPSTiO2, Ni(OH)2, O2-, OH- na H2OKuzamishwa kwa saa 24, 72 na 168
EBSD/KAMUsambazaji wa awamu, mipaka ya chembe na mikrotegukoB2, B19′ na kutolingana kwa mwelekeo wa eneo

Ulinganisho wa mikrostruktura wa sampuli mbili

SifaASLASHUhusiano na kutu
Uwiano wa chembe za kiseli%41,2%13,5Uundaji wa haraka zaidi wa filamu passivu kwa ASL
Uwiano wa martensite%1,8%6,3Interfaces nyingi zaidi za awamu na shughuli ya eneo kwa ASH
Wastani wa KAM0,640,83Mikroteguko ya juu zaidi kwa ASH
Uwiano wa mipaka yenye pembe ndogo%71,6%59,6Mtandao mnene zaidi wa mipaka ya subgrain kwa ASL
Mofolojia ya Ti4Ni2OxKimtandao kwenye mpaka wa chembeYa nukta na iliyosambaa kwa usawa zaidiASL huonyesha mwingiliano mkubwa zaidi wa mikrogalvaniki mwanzoni.
Msongamano6,35 g/cm36,43 g/cm3ASH yenye msongamano mkubwa zaidi bado ilionyesha tabia dhaifu zaidi ya kutu ya eneo.

Ulinganisho wa matokeo makuu ya kutu

KipimoASLASH
Potenshali ya kutu-370 ± 6 mV-401 ± 10 mV
Potenshali ya kuvunjika1.463 ± 3 mV1.329 ± 5 mV
Upana wa eneo passivu1.833 ± 9 mV1.730 ± 15 mV
Tabia ya polarizationMashimo metastabali na upassivishaji upya wa dhahiriEneo passivu lililo laini zaidi, kisha kuvunjika kwa eneo
Saa 72 Rp13,5 × 105 Ω·cm26,72 × 105 Ω·cm2
Saa 72 Ni ya uso%1,09 atomiki%3,10 atomiki
Uso baada ya polarizationHakuna mashimo dhahiri; mashimo machache madogo na yasiyo na kinaMashimo ya eneo mapana zaidi lakini yasiyo na kina sana

Ni mbinu gani inayofaa zaidi kwa matumizi?

Matokeo ya utafiti yanaonyesha kwamba katika utengenezaji wa LPBF NiTi, kulenga msongamano wa nishati kwa ujazo pekee haitoshi. Hata katika msongamano uleule wa nishati, kuchagua nguvu ya leza na kasi ya uchanganuzi kila moja kivyake hubadilisha idadi ya mabwawa ya kuyeyuka, msongamano wa mipaka na mikrostruktura ya mwisho.

Mbinu inayopendekezwa na utafiti kwa upinzani wa kutu inafuata mpangilio huu:

  1. Kuchagua vigezo vya leza vinavyounda mabwawa madogo na yenye msongamano mkubwa zaidi ya kuyeyuka
  2. Kuongeza uwiano wa chembe za kiseli
  3. Kupunguza mikroteguko kwa annealing ya joto la kati baada ya utengenezaji
  4. Kufuatilia uwiano wa martensite na mofolojia ya precipitate
  5. Kuchunguza sio tu matokeo ya kwanza ya polarization, bali pia tabia ya filamu passivu inayokua kadiri muda unavyopita

Mbinu hii si kichocheo cha moja kwa moja cha viwandani. Vigezo vinapaswa kuboreshwa upya kwa uwiano tofauti wa Ni/Ti, optiki za mashine, sifa za unga, njia za uchanganuzi na jiometri za sehemu.

Ni majaribio gani ya ziada yanahitajika kabla ya matumizi ya viwandani?

  • Ramani pana zaidi ya mchakato inayojumuisha nguvu tofauti za leza na kasi tofauti za uchanganuzi
  • Uzalishaji unaoweza kurudiwa kati ya batchi tofauti
  • Maji halisi ya bahari na viwango vya kloridi vinavyobadilika
  • Athari za joto, pH na oksijeni iliyoyeyushwa
  • Kuzamishwa kwa muda mrefu na uchovu wa kutu
  • Majaribio ya kutu ya wakati mmoja na superelasticity ya mvutano na mgandamizo
  • Uchanganuzi wa kiasi wa myeyusho kwa utoaji wa ioni za Ni
  • Kupima unene wa filamu passivu kwa TEM ya sehemu ya msalaba au wasifu wa kina
  • Athari za ukwaruzo wa uso na mbinu za kumalizia
  • Sehemu halisi za LPBF zenye jiometri tata
  • Iwapo matumizi ya kitabibu yanalengwa, majimaji bandia ya mwili, biocompatibility na majaribio ya seli
  • Iwapo matumizi ya baharini yanalengwa, majaribio ya mashimo na uendelezaji wa nyufa chini ya teguko

Maelezo ya Chanzo na Mbinu

  • Jina kamili la awali la utafiti: Cellular grain control for enhanced pitting resistance in LPBF NiTi alloys
  • Waandishi: An Yan, Weisi Cai, Xubing Wei, Pengxu Li, Zhicheng He, Xiaowei Li, Meng Cheng, Lai-Chang Zhang, Chao Yang
  • Mpangilio wa waandishi: An Yan ni wa kwanza, Weisi Cai wa pili, Xubing Wei wa tatu, Pengxu Li wa nne, Zhicheng He wa tano, Xiaowei Li wa sita, Meng Cheng wa saba, Lai-Chang Zhang wa nane na Chao Yang mwandishi wa tisa.
  • Mwandishi wa kwanza mwenza: Hakuna tamko la mchango sawa au uandishi wa kwanza wa pamoja.
  • Waandishi wawasilianaji waliotajwa katika makala: Xiaowei Li na Chao Yang
  • Mwandishi wa mawasiliano kwenye jukwaa la SSRN: An Yan
  • Taasisi 1: School of Materials Science and Physics, China University of Mining and Technology, Xuzhou, China
  • Taasisi 2: National Engineering Research Center of Near-net-shape Forming for Metallic Materials na Guangdong Provincial Key Laboratory for Processing and Forming of Advanced Metallic Materials, South China University of Technology, Guangzhou, China
  • Taasisi 3: Department of Mechanical Engineering, The University of Hong Kong, Hong Kong, China
  • Taasisi 4: School of Engineering, Edith Cowan University, Joondalup, Western Australia, Australia
  • Taasisi 5: Jiangsu Key Laboratory for 3C Products Additive Manufacturing and Surface Technology, China University of Mining and Technology, Xuzhou, China
  • DOI:10.2139/ssrn.7201326
  • Jukwaa la uchapishaji: SSRN
  • Mwendeshaji wa jukwaa: Elsevier
  • Jarida: Hakuna jarida maalumu lililopitiwa na wenzao au toleo la mwisho lililokubaliwa ambalo limethibitishwa.
  • Mwaka wa uchapishaji: 2026
  • Aina ya chanzo: Utafiti wa majaribio wa preprint unaojumuisha utengenezaji nyongeza, utambuzi wa mikrostruktura, majaribio ya kielektrokemia na uchanganuzi wa filamu passivu
  • Hali ya mapitio: Haujapitia mapitio ya wenzao.
  • Kiungo rasmi cha chanzo:Ukurasa rasmi wa utafiti wa SSRN

Utafiti uliungwa mkono na Joint Funds of the National Natural Science Foundation of China U24A2025, National Natural Science Foundation of China 52371027, mradi wa maendeleo ya viwanda wa Xuzhou “343” gx2025006 na mradi wa Guangdong Provincial Key Laboratory for Processing and Forming of Advanced Metallic Materials GJ 202401 katika South China University of Technology.

Waandishi hawakuripoti maslahi ya kifedha yanayoshindana au uhusiano wa kibinafsi unaojulikana ambao ungeweza kuathiri matokeo ya utafiti. Ilielezwa kwamba data za utafiti zitatolewa kwa ombi.

Maelezo haya ya Kiswahili yaliandaliwa kwa kuchunguza mpangilio wa utengenezaji wa utafiti, mbinu zote za majaribio, matokeo ya XRD, picha za darubini ya macho na elektroni, uchanganuzi wa TEM na muundo wa fuwele, mikunjo ya polarization, matokeo ya impedance ya kielektrokemia, ramani za potenshali ya uso, vipengele vya XPS, ramani za awamu za EBSD na KAM pamoja na utaratibu uliopendekezwa wa kutu.

Maudhui ya kisayansi yanategemea tu utafiti uliokaguliwa. Vyanzo vya nje vilitumika tu kwa uthibitishaji wa kibibliografia wa majina kamili ya waandishi, DOI, jukwaa la uchapishaji, utambulisho wa taasisi na hali ya preprint. Hakuna matokeo mapya ya kutu, mafanikio ya matumizi au thamani ya utendaji ambayo haikuwapo katika utafiti iliyoongezwa.

Matokeo yanahusu sampuli za NiTi zilizotengenezwa kwa makundi mawili mahususi ya vigezo vya LPBF na kufanyiwa mchakato uleule wa annealing. Athari chanya ya uwiano mkubwa wa chembe za kiseli ilitokea pamoja na mikroteguko ndogo na muundo unaofaa wa awamu-precipitate. Kwa hiyo, matokeo hayapaswi kutafsiriwa kuwa kuongeza tu uwiano wa chembe za kiseli kutatosha kwa aloi zote za NiTi.


Shiriki:

Maoni huchapishwa baada ya kukaguliwa.Maoni yako yatapitia mchakato wa idhini na yataonekana yakikubaliwa.

Acha maoni

Anwani yako ya barua pepe haitachapishwa. Sehemu za lazima zimewekewa alama ya *

Your experience on this site will be improved by allowing cookies Cookie Policy