17/08/2026Veri Anla Бул сереп өнүккөн жарым өткөргүч өндүрүшүндө масканы классикалык түрдө алдыга карай оңдоонун ордуна, максатталган чип үлгүсү аркылуу артка эсептеп оптималдаштырган тескери литография технологиясын (Inverse Lithography Technology, ILT) изилдейт. Көбүрөөк көрүү
Бул сайтта кукилерге уруксат берүү тажрыйбаңызды жакшыртат. Куки саясаты
Бул кукилер веб-сайттын туура иштеши үчүн зарыл.
Бул кукилер коноктордун веб-сайт менен кантип иштешерин түшүнүүгө жардам берет.
Бул кукилер жекелештирилген жарнамаларды көрсөтүү үчүн колдонулат.
