18/08/2026Veri Anla Taelim Lee жана кесиптештери HfO₂ негизиндеги металл–изолятор–металл (MIM) конденсаторлорунда алюминийди пленка боюнча бир тектүү бөлүштүрүүнүн ордуна башкарылуучу концентрациялык градиент түзүү диэлектрдик иштешти кантип өзгөртөрүн эксперименттик түрдө изилдешти. Көбүрөөк көрүү
Бул сайтта кукилерге уруксат берүү тажрыйбаңызды жакшыртат. Куки саясаты
Бул кукилер веб-сайттын туура иштеши үчүн зарыл.
Бул кукилер коноктордун веб-сайт менен кантип иштешерин түшүнүүгө жардам берет.
Бул кукилер жекелештирилген жарнамаларды көрсөтүү үчүн колдонулат.
